HY-ML 系列超低温面源黑体
规格:
性能标签:15
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HY-ML系列超低温面源黑体属于真空环境下面源黑体,采用薄膜型加热器件进行温度控制,采用液氮/低温循环氦气进行主动降温,搭配自主研发的温度控制系统可实现宽温范围的精确控制,该面源黑体具备高均匀性、高发射率等特点,与此同时,集成度、标准化程度高,同样可应用于实验室及真空低温环境的红外成像器辐射定标和非均匀性校正。
绝对温度可调节(150K~450K,低温均可扩展至40K)
高均匀度、高发射率辐射面
mK级温度分辨率
能够在极低的环境温度下运行(100K)
带有用户操作的大型彩色LCD显示屏界面
元器件100%国产化(可选)
以太网/RS-485/RS-422远程通信端口
型号:HY-ML- |
100 |
200 |
300 |
FB |
有效口径(mm) |
100×100 |
200×200 |
300×300 |
可到10m×10m |
绝对温度范围 |
150K~450K(低温均可扩展至40K) |
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温度分辨率 |
0.001K |
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法向有效发射率 |
0.98±0.02 |
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辐射面温度均匀性 |
0.5@[150K,200K],0.2@[200K,450K] |
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温度稳定性 |
0.05K/min |
|||
测温准确度(传感器) |
±(0.06℃+0.005|t|) |
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辐射源尺寸 (宽高深mm) |
150×180×80 |
280×320×160 |
400×460×220 |
定制 |
辐射源重量(Kg) |
12 |
30 |
50 |
定制 |
MAX功耗(KW) |
1.0 |
2.2 |
3.5 |
定制 |
供电要求 |
220VAC,50/60Hz |
定制 |
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控制器尺寸(宽深高mm) |
483×400×135(3U) |
483×400×178(4U) |
定制 |
|
控制器重量(Kg) |
16 |
35 |
定制 |
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通讯接口 |
RS-422/RS-485/RS232/以太网 |
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工作环境温度(辐射源) |
100K |
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工作环境温度(控制器) |
-10℃~40℃ |
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贮存温度 |
-40℃~70℃ |
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